Голографический интерферометр для контроля прозрачных подложек дифракционных оптических элементов

Abstract

Отмечено, что в оптическом производственном контроле требуются сравнительно простые и надежные в работе интерференционные устройства, обеспечивающие реализацию различных способов контроля оптических элементов. Разработана оптическая схема голографического интерферометра, пригодная для работы в производственных условиях, которая позволяет реализовать способ интерференционного контроля качества оптических элементов типа фазовой дифракционной решетки на прозрачной стеклянной подложке. Способ основан на сравнении контролируемого элемента с эталонным. В данной схеме интерферометра конечная интерферограмма формируется при наложении двух световых пучков – объектного и эталонного, сдвинутых в пространстве на величину, сравнимую с диаметром самого пучка и превышающую линейные размеры исследуемого дифракционного оптического элемента. Представлены интерференционные картины результатов контроля качества подложек дифракционного оптического элемента. Предложенный способ может быть использован в оптическом производственном контроле дифракционного оптического элемента. = The procedures of optical manufacturing inspection necessitate implementation of relatively simple and effective interference devices enabling realization of various methods to control optical elements. This paper presents a scheme of holographic optical interferometer suitable for the working conditions; the interferometer may be used for the interference quality control of optical elements such as a phase diffraction grating on the transparent glass substrate. The suggested procedure is based on comparison between the element controlled and the reference. In the interferometer scheme under consideration the final interferogram is formed by superposition of two light beams (object and reference) with a spatial shift comparable to the diameter of the beam itself and exceeding the linear dimensions of the diffractive optical element (DOE) under study. The resultant interference patterns for the substrates of DOEs subjected to the control procedures are given. The proposed method may be used for the optical manufacturing inspection of DOEs.