Формирование оптически-прозрачных кремниевых покрытий методом магнетронного распыления

Abstract

Методами атомно-силовой микроскопии и спектрофотометрии исследованы морфология поверхности и оптические характеристики Si покрытий, сформированных методом магнетронного распыления. Обнаружено, что технологические параметры (температура подложки и потенциал смещения) магнетронного распыления влияют на морфологию поверхности пленок Si (появление на поверхности нитевидных структур и/или круглых углублений) и на положения минимумов и максимумов в спектрах отражения и пропускания = The surface morphology and optical properties of Si coatings formed by magnetron sputtering were studied using atomic force microscopy and spectrophotometry methods. It has been found that the magnetron sputtering technological parameters (substrate temperature and bias potential) influence on the morphology of the silicon coatings surface (filamentous structures and/or round holes appearance) and on the coefficients minima and maxima reflectance and transmittance spectra location