Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/182240
Title: | Создание методами ионной имплантации и импульсного лазерного отжига композитных слоев Si и GeSi с наночастицами Ag |
Other Titles: | Formation of composite Si and GeSi layers with Ag nanoparticles by ion implantation and pulsed laser annealing / R.I. Batalov, R.M. Bayazitov, V.I. Nuzhdin, V.F. Valeev, V.V. Vorob’ev, Yu.N. Osin, G.D. Ivlev, A.L. Stepanov |
Authors: | Баталов, Р. И. Баязитов, Р. М. Нуждин, В. И. Валеев, В. Ф. Воробьев, В. В. Осин, Ю. Н. Ивлев, Г. Д. Степанов, А. Л. |
Keywords: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
Issue Date: | 2017 |
Publisher: | Минск: Изд. центр БГУ |
Citation: | Взаимодействие излучений с твердым телом = Interaction of Radiation with Solids: материалы 12-й Междунар. конф., Минск, Беларусь, 19—22 сент. 2017 г. / редкол.: В.В. Углов (отв.ред.) [и др.]. — Минск: Изд. центр БГУ, 2017. — С. 306-308. |
Abstract: | В работе изучено воздействие импульсного лазерного излучения ( = 0.694 мкм) на слои монокристаллического Si, имплантированного ионами Ag+ либо ионами Ge+ и Ag+ для создания кристаллических композитных материалов Ag:Si и Ag:GeSi с наночастицами Ag, проявляющих плазмонный эффект. Одновременно с импульсным лазерным отжигом (ИЛО) проводилось зондирование облучаемой зоны по времени с регистрацией оптического отражения R(t). Установлено, что ИЛО образца Ag:Si приводит к образованию расплава на поверхности Si длительностью 90-170 нс, что согласуется с данными компьютерного моделирования. Плавление и кристаллизация имплантированных слоев приводит к образованию наночастиц Ag с размерами 5-10 нм и 40-50 нм. В спектрах R() слоя Ag:Si после ИЛО наблюдалось ослабление плазмонной полосы наночастиц Ag в Si (λ ~ 830 нм). Схожие результаты были получены для слоя Ag:GeSi = In this work the processing by pulsed laser radiation ( = 0.694 m) of monocrystalline Si layers implanted either by Ag+ ions or Ge+ and Ag+ ions to produce crystalline composite Ag:Si and Ag:GeSi films possessing nanoperticles with palsmonic effect is studied. Simultaneously with pulsed laser annealing (PLA) the probing of irradiated zone with registration of optical reflectivity R(t) is carried out. It is established that PLA of Ag:Si sample leads to melting of Si surface with 90-170 ns duration that agrees with computer simulation data. The melting and crystallization of the implanted layers leads to the reformation of Ag nanoparticles with sizes of 5-10 nm and 40-50 nm. R() spectra of Ag:Si layer after PLA showed the reduction of plasmonic band of Ag nanoparticles in Si ( = 835 nm). Similar results were obtained for Ag:GeSi layer |
Description: | Секция 4. Пучковые методы формирования наноматериалов и наноструктур |
URI: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/182240 |
ISBN: | 978-985-553-446-5 |
Appears in Collections: | 2017. Взаимодействие излучений с твердым телом = Interaction of Radiation with Solids |
Files in This Item:
File | Description | Size | Format | |
---|---|---|---|---|
306-308.pdf | 606,18 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.