Неразрушающая эллипсометрическая методика контроля структуры углеродных пленок

Abstract

Thin carbon films were deposited on silicon and quartz substrates by pulsed laser deposition technique. Spectroscopic ellipscometry measurements in the spectral range 1,2-5 eV were conducted. The influence of pulse laser energy, substrate temperature and thermal annealing on the optical properties films was investigated. While pulse laser energy increased and sp2-carbon phase increased so as the maintenance of other carbon forms. Проведены исследования оптических характеристик углеродных пленок, полученных с помощью импульсного лазерного осаждения в вакууме на кремниевые и кварцевые подложки. Методом спектральной эллипсометрии (в диапазоне энергий фотонов 1,2-5 эВ) обнаружена зависимость коэффициента поглощения и содержания sp3-фазы углерода от энергии лазерного импульса, температуры подогрева подложки во время осаждения и последующего термического отжига. С увеличением энергии лазерного излучения толщина пленок растет, однако увеличивается и содержание углерода с sp3-гибридизацией, а также иных углеродных включений.