Исследование дефектности поверхности монокристаллических подложек синтетического алмаза для эпитаксиальных технологий

Abstract

It is determined, that the faultiness of substrate surface coating is characterized by asymmetry of reflection curve in the low-angles range of X-ray diffraction. = Методами дифракции быстрых электронов в режиме «на отражение», дифракции рентгеновских лучей путем анализа профиля кривой дифракционного отражения и интерферометрии была исследована структура и морфология поверхности монокристаллических алмазных подложек (001)-ориентации после их шлифовки и полировки. Установлено, что контролировать качество структурного совершенства приповерхностного слоя подложек можно по степени изменения симметрии на «хвосте» кривой отражения для углов отклонения от брэгговского на 0,02÷0,1°. Обнаружено, что двухсторонняя финишная полировка образцов по сравнению с односторонней приводит к уменьшению величины асимметрии в 2,5÷3,6 раза.