Элементный состав и структура Zn-Ni-SiO2-покрытий, сформированных при воздействии рентгеновских лучей на электролит

Abstract

Using X-ray microanalysis and scanning electron microscopy Zn-Ni-SiO2-plating containing SiO2 nanoparticles were studied. It was found that X-ray irradiation of the electrolyte leads to the increased Ni concentration in Zn-Ni-SiO2(X) films and the grain size is also increasing (the grain size is twice that in the unirradiated case). A thickness of Zn-Ni-SiO2(X) plating is 20 μm and a thickness of the Zn-Ni-SiO2-plating is about 15 μm. The surface morphology was studied using AFM method. It was shown that the observed features of the coatings surface morphology can be due to the fact that the additive nanoparticles SiO2 in the electrolyte prevent delamination. = С помощью рентгеноспектрального микроанализа и растровой электронной микроскопии обнаружено, что при воздействии рентгеновских лучей на электролит, содержащий наночастицы SiO2, осаждаются покрытия Zn-Ni-SiO2(Х) с большим содержанием никеля, при этом наблюдается существенное изменение морфологии их поверхности – размер гранул заметно увеличивается от 0,2–0,5 мкм для исходного покрытия Zn-Ni-SiO2 до 0,5–1,0 мкм. При одинаковом времени осаждения толщина покрытий Zn-Ni-SiO2(Х) составляет 20 мкм, а Zn-Ni-SiO2 на 30 % меньше. С помощью атомно-силовой микроскопии показано, что для Zn-Ni-SiO2(Х) характерен более развитый рельеф поверхности. Наблюдаемые особенности морфологии поверхности покрытий могут быть связаны с тем, что добавка в электролит частиц SiO2 предотвращает расслоение и оседание его компонентов, увеличение вязкости электролита. При воздействии рентгеновских лучей на электролит в результате радиолиза рост зародышей может происходить с большей скоростью, что может привести к формированию гранул сложной формы и большего размера.