https://elib.bsu.by:443/handle/123456789/26283 ВИТТ - 2011 2026-04-18T07:11:52Z https://elib.bsu.by:443/handle/123456789/28313 Заглавие документа: СИНТЕЗ НИКЕЛИДА ТИТАНА КОМПРЕССИОННЫМИ ПЛАЗМЕННЫМИ ПОТОКАМИ Авторы: Шиманский, В. И.; Асташинская, М. В.; Рева, О. В. Аннотация: В работе представлены результаты исследования фазового состояния поверхностных слоев титана, легированного атомами никеля воздействием компрессионными плазменными потоками. Методом рентгеноструктурного анализа вы- явлено образование никелида титана (TiNi), который является перспективным материалом в области биоматериалове- дения. Установлено, что образование TiNi происходит при плотности поглощенной энергии не превышающей 19 Дж/см2 (при толщине покрытия никеля 4 мкм), что обеспечивает концентрацию никеля в модифицированном слое свыше 33 ат. %. Образование наряду с никелидом титана интерметаллида Ti2Ni и твердого раствора β-Ti(Ni) позволяет увеличить микротвердость поверхностного слоя в 3 – 3,5 раза. 2011-01-01T00:00:00Z https://elib.bsu.by:443/handle/123456789/28312 Заглавие документа: МОДИФИКАЦИЯ ПОВЕРХНОСТНЫХ СЛОЕВ ТВЕРДЫХ СПЛАВОВ КОМПРЕССИОННЫМИ ПЛАЗМЕННЫМИ ПОТОКАМИ Авторы: Углов, В. В.; Асташинский, В. М.; Кулешов, А. К. Аннотация: Исследовано влияние плотности энергии (5 - 27 Дж/см2) воздействия компрессионными плазменными потоками (КПП) на структуру, фазовый состав и микротвердость твердого сплава T15K6, а также системы молибденовое покры- тие - твердый сплав Т15К6. Результатом воздействия КПП является повышение микротвердости поверхностных слоев изучаемых систем более чем в два раза вследствие формирования модифицированного слоя с высокодисперсной структурой, фазовый состав которого соответствует твердому раствору (Ti, W)C, легированного молибденом, а также выделения частиц вторых фаз (TiN, W2N, Mo2N и Мо2С, W2C). 2011-01-01T00:00:00Z https://elib.bsu.by:443/handle/123456789/28311 Заглавие документа: СТРУКТУРНЫЕ И ОПТИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА ЭПИТАКСИАЛЬНЫХ СЛОЕВ Si/Si1-xGex:Er/Si, ОБЛУЧЕННЫХ ЛАЗЕРНЫМИ ИМПУЛЬСАМИ Авторы: Прокопьев, С. Л.; Гацкевич, Е. И.; Степихова, М. В. Аннотация: Методами просвечивающей электронной микроскопии и фотолюминесценции исследованы структурные и оптиче- ские свойства структур Si/Si1-xGex:Er/Si после эпитаксиального выращивания и последующей обработки импульсным лазерным излучением. Структуры выращивались методом сублимационной молекулярно-лучевой эпитаксии на крем- ниевых подложках с ориентацией (001) и подвергались лазерному отжигу импульсами длительностью 80 нс с плотно- стью энергии 0,95 Дж/см2 и 1,5 Дж/см2 на длине волны 694 нм. Измерения методом фотолюминесценции проводились при температуре 77 К. Результаты обсуждаются с учетом влияния дефектной структуры слоев Si/Si1-xGex:Er/Si на их оптические свойства. 2011-01-01T00:00:00Z https://elib.bsu.by:443/handle/123456789/28310 Заглавие документа: ФОРМИРОВАНИЕ СУБМИКРОННЫХ n+- СЛОЕВ В Si и SiGe, ИМПЛАНТИРОВАННЫХ ИОНАМИ Авторы: Покотило, Ю. М.; Петух, А. Н.; Гиро, А. В. Аннотация: При имплантации протонов с энергией 300 кэВ и последующей термообработке 350 0С в течение 20 мин в кристал- лах Si и SiGe формируются низкоомные n+-слои. Форма профилей описывается гауссовым распределением с полуши- риной ∆Rp=0.49 и 1.38 мкм и концентрацией Н-доноров в максимуме Nmax=7.1015 и 4.2.1016 см-3 соответственно для об- разцов Si и SiGe. Обсуждаются причины снижения эффективности образования Н-доноров и уширения слоя в кристал- лах SiGe. 2011-01-01T00:00:00Z