ЭБ Коллекция:https://elib.bsu.by:443/handle/123456789/2593922024-03-29T10:15:18Z2024-03-29T10:15:18ZВлияние изотопного состава кремния на локальные колебательные моды комплекса вакансия – кислородТолкачева, Е. А.Маркевич, В. П.Мурин, Л. И.https://elib.bsu.by:443/handle/123456789/2595342021-11-12T11:25:19Z2021-01-01T00:00:00ZЗаглавие документа: Влияние изотопного состава кремния на локальные колебательные моды комплекса вакансия – кислород
Авторы: Толкачева, Е. А.; Маркевич, В. П.; Мурин, Л. И.
Аннотация: Изотопный состав природного кремния (28Si (92,23 %), 29Si (4,68 %) и 30Si (3,09 %)) оказывает заметное влияние на форму полос ИК-поглощения, обусловленных примесными атомами кислорода. Определено положение локальных колебательных мод (ЛКМ), связанных с квазимолекулами 28Si – 16OS – 29Si и 28Si – 16OS – 30Si (OS – атом кислорода в узле решетки), для спектров поглощения, измеренных при Т ≅ 20 К и комнатной температуре (Т ≅ 300 К). Оценка изотопических сдвигов соответствующих мод проведена путем подгонки формы полосы поглощения комплекса вакансия – кислород (А-центр) в облученных кристаллах Si. Изотопические сдвиги ЛКМ при Т ≅ 300 К равны (2,22 ± 0,25) см–1 для 28Si – 16OS – 29Si и (4,19 ± 0,80) см–1 для 28Si – 16OS – 30Si по отношению к наиболее интенсивной полосе с максимумом у (830,29 ± 0,09) см–1, связанной с колебаниями 28Si – 16OS – 28Si, а полуширина полос поглощения А-центра составляет (5,30 ± 0,26) см–1. При Т ≅ 20 К значения соответствующих величин были определены как (1,51 ± 0,13); (2,92 ± 0,20); (835,78 ± 0,01) и (2,34 ± 0,03) см–1. Обсуждена модель для расчета изотопических сдвигов в рассматриваемом случае. На основании анализа изотопических сдвигов получены данные о структуре комплекса вакансия – кислород в кремнии при Т ≅ 20 К и комнатной температуре.2021-01-01T00:00:00ZТранспортные свойства решеточного флюида с SАLR-потенциалом на плоской квадратной решеткеГрода, Я. Г.Ласовский, Р. Н.https://elib.bsu.by:443/handle/123456789/2595332021-11-12T11:46:58Z2021-01-01T00:00:00ZЗаглавие документа: Транспортные свойства решеточного флюида с SАLR-потенциалом на плоской квадратной решетке
Авторы: Грода, Я. Г.; Ласовский, Р. Н.
Аннотация: Исследованы транспортные свойства решеточного флюида с притяжением ближайших соседей и отталкиванием третьих соседей на квадратной решетке. Выполнено компьютерное моделирование диффузионного процесса в указанной системе по методу Монте-Карло. Выявлены коэффициенты кинетической диффузии и самодиффузии. Изучена зависимость коэффициентов диффузии от концентрации примесных частиц и параметра взаимодействия модели. Определена энергия активации кинетической диффузии и самодиффузии. Показана возможность оценки коэффициента кинетической диффузии решеточного флюида с конкурирующими взаимодействиями с помощью соотношения Жданова на основе информации о равновесных свойствах системы и коэффициенте диффузии ленгмюровского (невзаимодействующего) решеточного газа. В дальнейшем предполагается использовать полученные результаты для исследования транспортных процессов в пространственных решеточных системах, пригодных для описания переноса массы или заряда в объемах твердых тел.2021-01-01T00:00:00ZИзменение напряженного состояния электролитического никеля при воздействии плазмыАнисович, А. Г.https://elib.bsu.by:443/handle/123456789/2595322021-11-12T11:25:29Z2021-01-01T00:00:00ZЗаглавие документа: Изменение напряженного состояния электролитического никеля при воздействии плазмы
Авторы: Анисович, А. Г.
Аннотация: Исследовано влияние холодной плазмы воздуха на катодный никель марки Н-1. Проанализировано изменение микроструктуры, макро- и микронапряжений, а также статических смещений атомов из положений равновесия. Методом прицельной металлографии показано, что при воздействии плазмы микроструктура материала остается неизменной. В ходе рентгеноструктурных исследований установлено, что плазменная обработка не влияет на уровень микронапряжений. Показано снижение величины макронапряжений и статических смещений атомов из положений равновесия при воздействии плазмы в течение 5 и 10 мин. При этом макронапряжения изменяются от напряжений растяжения в исходном состоянии до напряжений сжатия после обработки плазмой.2021-01-01T00:00:00ZРежимы обработки подложек и нанесения нанопокрытий с помощью лазерно-плазменного методаГончаров, В. К.Пузырев, М. В.Прокопеня, Д. П.Шульган, Н. И.Ступакевич, В. Ю.https://elib.bsu.by:443/handle/123456789/2595312021-11-12T11:46:44Z2021-01-01T00:00:00ZЗаглавие документа: Режимы обработки подложек и нанесения нанопокрытий с помощью лазерно-плазменного метода
Авторы: Гончаров, В. К.; Пузырев, М. В.; Прокопеня, Д. П.; Шульган, Н. И.; Ступакевич, В. Ю.
Аннотация: Изучены физические процессы в лазерно-плазменном источнике, который используется для нанесения наноструктур и представляет собой эрозионный лазерный факел материала мишени и подложку, расположенную в вакуумной камере. Для плавной регулировки параметров наносимых на подложку частиц между лазерной мишенью и подложкой предложено поместить сетку, на которую подается отрицательный потенциал по отношению к лазерной мишени. В результате после сетки формируется поток частиц, состоящий преимущественно из ионов, энергией которых можно надежно и плавно управлять, подавая на сетку положительный потенциал по отношению к подложке. Экспериментально обоснован метод нанесения нанопокрытий с помощью ионов из лазерной плазмы. Показано, что в лазерно-плазменном источнике для нанесения наноструктур можно реализовать различные режимы обработки поверхности подложки. Данный источник позволяет последовательно, не разгерметизируя вакуумную камеру, произвести очистку поверхности подложки, создать псевдодиффузионный слой материала лазерной мишени в приповерхностном слое подложки. Это обеспечит получение высокоадгезионных нанопокрытий с заранее заданными параметрами.2021-01-01T00:00:00Z