Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/7660
Заглавие документа: | Основы оптических технологий в микроэлектронике: учебные материалы / В. М. Стецик; БГУ, Факультет радиофизики и компьютерных технологий |
Авторы: | Стецик, В. М. |
Тема: | ЭБ БГУ::ТЕХНИЧЕСКИЕ И ПРИКЛАДНЫЕ НАУКИ. ОТРАСЛИ ЭКОНОМИКИ::Электроника. Радиотехника |
Дата публикации: | 2-мая-2012 |
Аннотация: | Процесс развития фотолитографии представляет собой последователь- ный переход к обеспечению производства ИС с топологическими элементами все меньших размеров. На первом этапе (1960-е годы) минимальные элементы топологии имели размеры более 10 мкм. Для формирования структур с такими размерами было создано первое поколение соответствующего оптико- механического оборудования: редукционные размеры, фотоповторители, кон- тактные установки совмещения, разрешение и точность которых составляла 3…5 мкм. Второй этап (1970-е годы) характеризуется минимальным размером элементов до 3 мкм, ростом степени интеграции, появлением больших ИС (БИС). |
URI документа: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/7660 |
Располагается в коллекциях: | Кафедра квантовой радиофизики и оптоэлектроники (пособия) |
Полный текст документа:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
Основы опт технол в микроэлектронике.pdf | 2,74 MB | Adobe PDF | Открыть |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.