Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/42454
Заглавие документа: Изучение влияния поверхностно-активных ионов на кинетические параметры фотопроцесса в пленке пассивного железа с по- мощью модулированной по интенсивности спектроскопии фототоков
Авторы: Барышникова, Е. А.
Забенькина, Е. О.
Тема: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Химия
Дата публикации: 2012
Издатель: Минск: БГУ
Библиографическое описание источника: Свиридовские чтения : сб. ст. Вып. 8]. – Минск, 2012. – С. 14-24
Аннотация: Рассчитаны кинетические параметры фотопроцесса (скорость поверхностной реком- бинации, константа скорости восстановления промежуточной частицы, образующейся в твердой фазе, время релаксации пленки), протекающего в пассивирующей пленке анодно окисленного железного электрода в нейтральных нитратных средах и в присутствии в раство- ре поверхностно-активных ионов Ва2+, Сl–. Результаты расчетов основаны на эксперимен- тальных данных в условиях модулированного освещения пассивного железного электрода. Показано, что исследуемая система имеет два времени релаксации, а вводимые в раствор поверхностно-активные ионы влияют на величину кинетических параметров фотопроцесса, что свидетельствует о различном механизме переноса заряда через межфазную границу. Адсорбция анионов на поверхности пассивного железа приводит к более эффективному разделению заряда в пленке и снижению скорости рекомбинации. При адсорбции катио- нов скорость рекомбинации, наоборот, увеличивается, что связано с увеличением вблизи границы раздела концентрации электронов, оттянутых из объема полупроводника. Библиогр. 20 назв., ил. 5, табл. 4.
URI документа: http://elib.bsu.by/handle/123456789/42454
Располагается в коллекциях:Выпуск 8

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
14-24.pdf324,85 kBAdobe PDFОткрыть
Показать полное описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.