Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/304262
Заглавие документа: Ионно-плазменные, электронно-пучковые и комплексные установки для модификации поверхности твердых тел
Другое заглавие: Ion-plasma, electron-beam and complex facilities for surface modification of materials / N.N. Koval, Yu.H. Akhmadeev, V.V. Denisov, M.S. Vorobyov, V.N. Devyatkov, E.V. Ostroverkhov, S.S. Kovalsky, V.V. Yakovlev
Авторы: Коваль, Н. Н.
Ахмадеев, Ю. Х.
Денисов, В. В.
Воробьев, М. С.
Девятков, В. Н.
Островерхов, Е. В.
Ковальский, С. С.
Яковлев, В. В.
Тема: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Дата публикации: 2023
Издатель: Минск : БГУ
Библиографическое описание источника: Взаимодействие излучений с твердым телом : материалы 15-й Междунар. конф., Минск, Беларусь, 26-29 сент. 2023 г. / Белорус, гос. ун-т ; редкол.: В. В. Углов (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2023. – С. 510-513.
Аннотация: Рассмотрены принцип действия, конструкции, основные характеристики и параметры, а также примеры применения новых и модернизированных электронно-ионно-плазменных установок, созданных в Институте сильноточной электроники СО РАН. Установки используют объёмные плазменные образования, генерируемые разрядами низкого давления, в качестве рабочей среды для обработки помещённых в неё материалов и изделий либо в качестве имитирующей электроны плазмы в источниках электронов с плазменным катодом. Комплексные электронно-ионно-плазменные установки позволяют в едином вакуумном цикле осуществлять ионно-плазменную очистку, активацию и азотирование поверхности металлических материалов, создавая протяжённый (десятки-сотни микрометров) подслой, на которой электродуговым или магнетронным методом с плазменным ассистированием наносится тонкий (единицы микрометров) функциональный слой, что позволяет существенно (единицы-десятки раз) улучшить износостойкость обработанной таким образом поверхности образцов и изделий. С использованием результатов приведённой работы создан вакуумный электронно-ионно-плазменный стенд для in situ исследований структур, формируемых электронно-ионно-плазменными методами с использованием синхротронного излучения
Аннотация (на другом языке): The principle of operation, design, main characteristics and parameters, as well as examples of the use of new and modernized electron-ion-plasma facilities created at the Institute of High-Current Electronics of the Siberian Branch of the Russian Academy of Sciences are considered. The facilities use volumetric plasma formations generated by low-pressure discharges. These plasma formations are used as a working medium for treatment of materials and products or as an electron-emitting plasma in electron sources with a plasma cathode. Complex electron-ion-plasma facilities make it possible to carry out ion-plasma cleaning, activation and nitriding of the surface of metal materials, as well as the application of functional coatings in a single vacuum cycle. Nitriding leads to the formation of an extended (tens to hundreds of micrometers) sublayer, on which a thin (several micrometers) functional layer is deposited by the electric arc or magnetron method with plasma assistance. This makes it possible to significantly (a few to tens of times) improve the wear resistance of the surface of samples and products treated in this way. Using the results of this work, a vacuum electron-ion-plasma stand was created for in-situ synchrotron studies of structures formed by electron-ion-plasma methods
Доп. сведения: Секция 5. Методы, оборудование, плазменные и радиационные технологии = Section 5. Methods, equipment, plasma and radiation technologies
URI документа: https://elib.bsu.by/handle/123456789/304262
ISSN: 2663-9939 (Print)
2706-9060 (Online)
Финансовая поддержка: Работа выполнена при финансовой поддержке Российской Федерации в лице Министерства науки и высшего образования (проект № 075-15-2021-1348) в рамках мероприятия номер № 3.2.6.
Лицензия: info:eu-repo/semantics/openAccess
Располагается в коллекциях:2023. Взаимодействие излучений с твердым телом

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
510-513.pdf303,92 kBAdobe PDFОткрыть
Показать полное описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.