ВЫСОКОИНТЕНСИВНЫЕ ЭЛЕКТРОННЫЕ ПУЧКИ: ПОЛУЧЕНИЕ И ПРИМЕНЕНИЕ В ОБЛАСТИ МАТЕРИАЛОВЕДЕНИЯ

Abstract

Рассмотрен электронный источник, генерирующий низкоэнергетический пучок диаметром 1…3 см (до 300 А, 30-200 мкс, до 10 Гц, до 100 Дж/см2) в газонаполненном диоде с сетчатым плазменным катодом при ускоряющем напряжении до 25 кВ. Достигнутые параметры пучка позволяют использовать энергокомплекс с целью модификации поверхности материалов и изделий. Методами оптической, сканирующей и ди- фракционной электронной микроскопии, рентгеноструктурного анализа, путем проведения элементного анализа, построения профиля микро- и нанотвердости, выявления степени шероховатости поверхности обработки проведены исследования фазового состава и состояния дефектной субструктуры материалов, подвергнутых обработке импульсным низкоэнергетическим электронным пучком субмиллисекундной дли- тельности. Выявлено формирование субмикро-и нанокристаллической многофазной структуры, позво- ляющей кратно улучшать физико-механические и трибологические характеристики материала.