Режимы обработки подложек и нанесения нанопокрытий с помощью лазерно-плазменного метода

Abstract

Изучены физические процессы в лазерно-плазменном источнике, который используется для нанесения наноструктур и представляет собой эрозионный лазерный факел материала мишени и подложку, расположенную в вакуумной камере. Для плавной регулировки параметров наносимых на подложку частиц между лазерной мишенью и подложкой предложено поместить сетку, на которую подается отрицательный потенциал по отношению к лазерной мишени. В результате после сетки формируется поток частиц, состоящий преимущественно из ионов, энергией которых можно надежно и плавно управлять, подавая на сетку положительный потенциал по отношению к подложке. Экспериментально обоснован метод нанесения нанопокрытий с помощью ионов из лазерной плазмы. Показано, что в лазерно-плазменном источнике для нанесения наноструктур можно реализовать различные режимы обработки поверхности подложки. Данный источник позволяет последовательно, не разгерметизируя вакуумную камеру, произвести очистку поверхности подложки, создать псевдодиффузионный слой материала лазерной мишени в приповерхностном слое подложки. Это обеспечит получение высокоадгезионных нанопокрытий с заранее заданными параметрами.