Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/25863| Заглавие документа: | Ионная имплантация примесей в монокристаллы кремния: эффективность метода и радиационные нарушения |
| Авторы: | Челядинский, А. Р. Вавилов, В. С. |
| Тема: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
| Дата публикации: | мар-1995 |
| Библиографическое описание источника: | УФН. – 1995. – Т. 165, № 2. – С. 347-358. |
| URI документа: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/25863 |
| Располагается в коллекциях: | Архив статей |
Полный текст документа:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| DEF_Имплантация ионов в Si дефекты_Челядинск.pdf | 352,74 kB | Adobe PDF | Открыть |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.