Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/223224
Полная запись метаданных
Поле DC | Значение | Язык |
---|---|---|
dc.contributor.author | Анискевич, Е. Н. | - |
dc.contributor.author | Чулкин, П. В. | - |
dc.contributor.author | Рагойша, Г. А. | - |
dc.contributor.author | Стрельцов, Е. А. | - |
dc.date.accessioned | 2019-07-09T07:40:06Z | - |
dc.date.available | 2019-07-09T07:40:06Z | - |
dc.date.issued | 2015 | - |
dc.identifier.citation | Свиридовские чтения : сб. ст. Вып. 11 / редкол. : О. А. Ивашкевич (пред.) [и др.]. - Минск : БГУ, 2015. - С. 17-24 | ru |
dc.identifier.isbn | 978-985-566-165-9 | - |
dc.identifier.uri | http://elib.bsu.by/handle/123456789/223224 | - |
dc.description.abstract | Методами циклической вольтамперометрии и потенциодинамической электрохимической импедансной спектроскопии исследованы процессы подпотенциалъного катодного осаждения Pb, Ri, In, Sn, Zn, Ccl и Си на поверхность пленочных поликристаллических Те-электродов, электрохимически сформированных на пол и кристаллической Au-подложке. Установлена линейная корреляция между величиной подпотенциалъного сдвига катодного осаждения и энергией Гиббса образования соответствующих теллуридов. В исследованных процессах в отличие от подпотенциалъного осаждения металлов на металлы не наблюдается корреляция величины подпотснциального сдвига с разностью работ выхода электрона из подложки и осаждаемого металла. | ru |
dc.language.iso | ru | ru |
dc.publisher | Минск : БГУ | ru |
dc.subject | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Химия | ru |
dc.title | Зависимость подпотенциального сдвига катодного осаждения металлов на теллур от энергии Гиббса образования теллуридов | ru |
dc.type | article | ru |
dc.description.alternative | Undeipotential deposition of Pb, Bi, In, Sn, Zn, Cd and Cu on polycrystalline Те film electrodes formed by cathodic deposition on polycrystalline Au substrate has been investigated by cyclic voltammetry and potentiodynarnic electrochemical impedance spectroscopy. A linear correlation has been observed between the undeipotential shift of the cathodic deposition and Gibbs energy of formation of the corresponding metal telfuride. Contrary to the case of metal undeipotential deposition on foreign metal substrates, no correlation was observed between the undeipotential shifts and differences of work functions of the substrate and the deposited metal. | ru |
Располагается в коллекциях: | 2015. Свиридовские чтения. Выпуск 11 |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.