Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/182243
Заглавие документа: Влияние параметров высоковольтного импульсного потенциала смещения на подложке на структуру и напряженное состояние покрытий TiN, осажденных из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы
Другое заглавие: Influence of high-voltage pulse bias potential parameters on the structure and stress of TiN coatings deposited from filtered cathodic-arc plasma / V.V. Vasyliev, A.A. Luchaninov, E.N. Reshetnyak, V.E. Strel’nitskij
Авторы: Васильев, В. В.
Лучанинов, А. А.
Решетняк, Е. Н.
Стрельницкий, В. Е.
Тема: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Дата публикации: 2017
Издатель: Минск: Изд. центр БГУ
Библиографическое описание источника: Взаимодействие излучений с твердым телом = Interaction of Radiation with Solids: материалы 12-й Междунар. конф., Минск, Беларусь, 19—22 сент. 2017 г. / редкол.: В.В. Углов (отв.ред.) [и др.]. — Минск: Изд. центр БГУ, 2017. — С. 314-316.
Аннотация: Методами сканирующей электронной микроскопии и рентгеноструктурного анализа исследовано влияние частоты повторения и длительности импульсов высоковольтного импульсного потенциала смещения на подложке с амплитудой 1,5 кВ на структуру и напряженное состояние покрытий TiN, осажденных из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы. Установлено, что изменение частоты подачи импульсов в интервале от 2.5 до 12 кГц и длительности импульсов от 6 до 20 мкс не приводит к существенным изменениям элементного состава, микроструктуры, фазового состава и преимущественной ориентации в покрытиях TiN. Уровень сжимающих остаточных напряжений и размер кристаллитов в покрытиях немонотонно изменяются в пределах 8.5-10.5 ГПа и 6-9 нм, соответственно, в зависимости от соотношения между длительностью импульсов и их периодом. Максимальные напряжения и минимальные размеры кристаллитов наблюдаются в покрытиях, осажденных в условиях, когда время действия высоковольтного потенциала составляет 5-7% от общего времени осаждения = Scanning electron microscopy and X-ray diffraction analysis were used to study the effect of repetition frequency and pulse duration of a high-voltage pulsed substrate bias potential of 1.5 kV amplitude on the structure and stress state of TiN coatings deposited from a filtered vacuum arc plasma. It was found that variation of the repetition frequency of pulses in the range of 2.5 to 12 kHz and the pulse duration from 6 to 20 μs does not cause the significant changes in composition, microstructure, phase composition, and preferential orientation of TiN coatings. The only phase in the coatings is TiN nitride with a cubic structure of the NaCl type with a strong axial-type texture with an axis [110] in the direction of the normal to the surface. The coatings have an almost stoichiometric composition (49 at.% Ti and 51 at.% N) and a dense columnar microstructure. The level of residual compressive stresses and the size of crystallites in coatings vary non-monotonically within the ranges of 8.5-10.5 GPa and 6-9 nm, respectively, depending on the duty cycle of the pulses. The maximum stress value and minimum size of crystallites are observed in coatings deposited under condition the duty cycle equals to 5-7%
Доп. сведения: Секция 4. Пучковые методы формирования наноматериалов и наноструктур
URI документа: http://elib.bsu.by/handle/123456789/182243
ISBN: 978-985-553-446-5
Располагается в коллекциях:2017. Взаимодействие излучений с твердым телом = Interaction of Radiation with Solids

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
314-316.pdf255,4 kBAdobe PDFОткрыть
Показать полное описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.