Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/178413
Заглавие документа: | Исследовать электрофизические и структурные свойства водородосодержащих доноров в кристаллах кремния, германия и их сплавах : отчет о научно-исследовательской работе (заключительный) / БГУ ; научный руководитель Ю. М. Покотило |
Авторы: | Покотило, Ю. М. Смирнова, О. Ю. Литвинов, В. В. Петух, А. Н. Клищенко, А. П. Стельмах, Г. Ф. Гиро, А. В. Антонович, В. К. Суходольская, Л. И. Свекла, А. Р. Дышлевич, Ю. А. |
Тема: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
Дата публикации: | 2013 |
Издатель: | Минск : БГУ |
Аннотация: | Объектом исследования являются электрофизические свойства и условия формирования мелких водородных доноров в кристаллах германия, кремния, твердых растворах SiGe и GeSi, механизмы модификации свойств кристаллов кремния и сплавов при ионно-радиационных воздействиях. Цель работы – получение новые сведений о структурных и электрофизических свойствах, радиационно-технологических режимах формирования Н-доноров Основными методами исследований являются: измерения вольт-фарадных характеристик, нестационарная спектроскопия глубоких уровней (DLTS), спектроскопия комбинационного рассеяния света и ИК-поглощения. В процессе работы использовались приборы: Спектрометр DLTS C-V-профилометр ИК-спектрометр IR75 В результате проведенной работы показана возможность создания низкоомных n+-слоев в кристаллах кремния, германия и их сплавах, содержащих водородные доноры. Определено влияние радиационных дефектов, примеси кремния и германия в сплавах на формирование H-доноров. Установлена степень деформации решетки германия в твердом растворе германий-кремний. Показано, что высоту потенциального барьера промышленных (Al-Ni-Mo-Si) диодов Шоттки можно регулировать путем формирования водородосодержащих доноров в приконтактной базовой области. Использование разработанных научно-технологических принципов формирования водородосодержащих доноров в кремнии, германии и их твердых растворах при помощи протонной имплантации позволяет создать новые методики управления электрофизическими характеристиками полупроводниковых приборов. |
URI документа: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/178413 |
Регистрационный номер: | № гос. регистрации 20112594 |
Располагается в коллекциях: | Отчеты 2013 |
Полный текст документа:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
отчет Покотило 20112594.doc | 2,63 MB | Microsoft Word | Открыть |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.