Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/169014
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorDanilyuk, A. L.-
dc.contributor.authorTrafimenko, A. G.-
dc.contributor.authorFedotov, A. K.-
dc.contributor.authorSvito, I. A.-
dc.contributor.authorPrischepa, S. L.-
dc.date.accessioned2017-03-02T15:34:22Z-
dc.date.available2017-03-02T15:34:22Z-
dc.date.issued2016-11-
dc.identifier.citationApplied Physics Letters. - 2016. - Vol. 109, Issue 22. - P. 222104-1 - 222104-4ru
dc.identifier.issn0003-6951-
dc.identifier.urihttp://elib.bsu.by/handle/123456789/169014-
dc.description.abstractWe present the results on low temperature current-voltage characteristics of noncompensated Si doped by Sb. In the temperature range 1.9–2.25 K and at electrical fields smaller than 1 V/cm, the negative differential resistance (NDR) was observed. The external magnetic field enhances the region of the NDR. We attribute this effect to the delocalization of the D− states in the upper Hubbard band due to the accumulation of the charge injected by current.ru
dc.language.isoenru
dc.publisherAIP Publishingru
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физикаru
dc.titleNegative differential resistance in n-type noncompensated silicon at low temperatureru
dc.typearticleru
Располагается в коллекциях:Кафедра физики твердого тела и нанотехнологий (статьи)

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
Negative differential resistance in n-type noncompensated silicon at low temperature.pdf1,41 MBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.