Logo BSU

Please use this identifier to cite or link to this item: http://elib.bsu.by/handle/123456789/134532
Title: Оценка равномерности нагрева поверхности полупроводниковых пластин при быстрой термической обработке
Authors: Горушко, В. А.
Пилипенко, В. А.
Понарядов, В. В.
Петлицкая, Т. В.
Солодуха, В. А.
Шведов, С. В.
Keywords: ЭБ БГУ::ТЕХНИЧЕСКИЕ И ПРИКЛАДНЫЕ НАУКИ. ОТРАСЛИ ЭКОНОМИКИ::Электроника. Радиотехника
Issue Date: 2015
Publisher: Минск : БГУ
Citation: Вестник БГУ. Серия 1, Физика. Математика. Информатика. - 2015. - № 1. - С. 53-55
Abstract: Проведен расчет равномерности нагрева кремниевых пластин по их площади в камере установки быстрой термической обработки. Показано, что отклонение температуры от среднего значения не зависит от времени и является одинаковым как в начале, так и в конце быстрых термообработок (БТО) световыми импульсами секундной длительности, совпадая с неравномерностью светового потока по площади пластины. = Based on the three-dimensional nonstationary equation for heat conductivity, the calculation of the heating uniformity of silicon wafers over the area within a chamber of the rapid thermal treatment unit was performed. It was shown that the temperature deviation from the mean value is not dependent on time, being equal both at the beginning and at the end of the rapid thermal treatment procedure with pulse duration of several seconds and coincident with the light flux nonuniformity over the wafer area.
URI: http://elib.bsu.by/handle/123456789/134532
ISSN: 1561-834X
Appears in Collections:2015, №1 (январь)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
53-55.pdf415,56 kBAdobe PDFView/Open


PlumX

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.