Tibo 2019
Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: http://elib.bsu.by/handle/123456789/117108
Заглавие документа: Регрессионные процессы в пленочных TiO2-фотогра­фических слоях. 3. Влия­ние модифицирования поверх­ности TiO2
Авторы: Оришева, Р. М.
Нечепуренко, Юрий Васильевич
Соколов, Валерий Георгиевич
Свиридов, Вадим Васильевич
Браницкий, Геннадий Алексеевич
Тема: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Химия
Дата публикации: 1988
Издатель: Академия наук СССР
Библиографическое описание источника: Журнал научной и прикладной фотографии и кинематографии. УДК 771.535.1. 1988. Т.33. №3. С.186-190.
Аннотация: Изучены закономерности протекания регрессионных процессов в пленочных ТiO2-слоях, модифицированных примесями различной природы. Показано, что скорость разрушения и «растекания» скрытого изображения (СИ) замедляется на 3—4 порядка при легировании ТiO2 ионами Ag+ в количестве 3 10 -10 -5-10-9 моль/см . Показано, что адсорбция органических веществ алифатического ряда (спирты, альдегиды, кислоты, амины) на поверхности ТiO2 не приводит к созданию более глубоких уровней захвата фотоэлектронов по сравнению с немодифицированным ТiO2, в то время как в легированных ионами Ag+ ТiO2-слоях при облу- чении образуются Ag-чаcтицы, устойчивые к окислению и создающие в ТiO2 глубокие электроноакцепторные уровни, препятствующие «растеканию» СИ.
URI документа: http://elib.bsu.by/handle/123456789/117108
Располагается в коллекциях:Статьи сотрудников НИИ ФХП

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
Пленочные TiO2 фотослои Модиф. пов..pdf304,29 kBAdobe PDFОткрыть


PlumX

Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.