Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/108018Полная запись метаданных
| Поле DC | Значение | Язык |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Оджаев, В. Б. | - |
| dc.contributor.author | Олешкевич, А. Н. | - |
| dc.contributor.author | Лапчук, Т. М. | - |
| dc.contributor.author | Лапчук, Н. М. | - |
| dc.contributor.author | Волобуев, В. С. | - |
| dc.contributor.author | Никитенко, А. Н. | - |
| dc.date.accessioned | 2015-01-23T17:39:08Z | - |
| dc.date.available | 2015-01-23T17:39:08Z | - |
| dc.date.issued | 2014 | - |
| dc.identifier.citation | Материалы и структуры современной электроники: сб. науч. тр. VI Междунар. науч. конф., Минск, 8-9 окт. 2014 г. / редкол.: В.Б. Оджаев (отв. ред.) [и др.]. - Минск: Изд. центр БГУ, 2014. - С. | ru |
| dc.identifier.isbn | 978-985-553-234-8 | - |
| dc.identifier.uri | http://elib.bsu.by/handle/123456789/108018 | - |
| dc.description.abstract | В работе установлены основные отличительные черты радиационного легирования пленок фоторезиста примесью, с различной магнитной активностью путем анализа основных параметров спектров ЭПР этих образцов. Исследовались образцы пленок промышленного позитивного фоторезиста марки ФП 9120 исходные и имплантированные ионами металлической примеси (Fe, Ni, Sb). Природа парамагнитных центров в имплантированных ионами сурьмы пленках фоторезиста обусловлена локализованными на разорванной химической связи С-С неспаренными электронами. Значения g–факторов свидетельствуют о преимущественном вкладе орбитального момента электронов, чем объясняется магнетизм легированных ионами железа пленок фоторезиста не магнитных в исходном состоянии. | ru |
| dc.description.sponsorship | Белорусский Республиканский Фонд Фундаментальных Исследований | ru |
| dc.language.iso | ru | ru |
| dc.publisher | Издательский центр БГУ | ru |
| dc.subject | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика | ru |
| dc.title | Особенности парамагнетизма имплантированных ионами железа, никеля и сурьмы полимерных пленок промышленного фоторезиста | ru |
| dc.type | conference paper | ru |
| Располагается в коллекциях: | 2014. Материалы и структуры современной электроники | |
Полный текст документа:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| p.135-138.pdf | 288,09 kB | Adobe PDF | Открыть |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.